Mini Step and Repeat System NES1W-i10 NEW NES2W-i102.6˜m NES1W-i10 1/1 44mm ※ 365nm 0.6˜m 0.9˜m...
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Mini Step and Repeat System
NES1W-i10
Following new optics has been under development in order to meet various requirements in the emerging MEMS manufacturing �eld.
変貌するMEMS市場からの要望に応えるために、
新たにi-line投影レンズOPTIONを開発中
i-line専用光学系の更なる進化! もう一段広いフィールドと高分解能の両立を目指した投影レンズの開発
露光エリア拡大によるスループット向上安全規格対応多様で高精度な裏面アライメント最小レベルのフットプリント
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●●●●High resolution with more bigger field size will be achieved by newly designed projection lens development
NES2W-i10 SEM Image
2.5µm L/S
4μm L/S sample
20μm defocus
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Higher throughput will also be aimed to achieved with differently designed with increasing its field sizeCompliant with SEMI / CEVarious high precision backside alignment is possible to use on these new modelsSmall footprint is well kept for these new models as well.
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i10 : 44mm□ / 2.6μm
Best focus
NES2W-i10 焦点深度
20
50
100
150
3解像力[μmL&S]
焦点深度(DOF)[μm]
4 5
Resolution 2.6μm
NES2W-i10
Reduction Ratio 1/1
Exposure Area 44mm□※
Exp light Source 365nm
Overlay 0.6μm
Backside Alignment Overlay 0.9μm
Substrate Size φ150mm / φ200mm
Throughput 200mm : 90WPH
Dimensions (WxDxH)/ Weight 1,440x2,290x2,100mm / 2,150kg※長方形はオプションです。
i10 : 44mm□ / 2.6μm
〒140-0012 東京都品川区勝島1丁目5番21号(東神ビル)
https://www.nikontec.co.jp/contact/index.htm
2.6μm
NES1W-i10
1/1
44mm□※
365nm
0.6μm
0.9μm
φ50mm ~ φ150mm
150mm : 125WPH
1,150x1,940x2,070mm / 1,750kg
NES2W-i10
安全に関するご注意 ■ご使用の前に「使用説明書」をよくお読みの上、正しくお使いください。
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本カタログに記載されている会社名および商品名は、各社の商標または登録商標です。カタログ記載の内容は 2017 年 11 月現在のものです。製品の価格、仕様、外観は製造者 / 販売者側がなんら債務を負うことなく予告なしに変更されます。
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