Mini Step and Repeat System NES1W-i10 NEW NES2W-i102.6˜m NES1W-i10 1/1 44mm ※ 365nm 0.6˜m 0.9˜m...

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Mini Step and Repeat System NES1W-i10 Following new optics has been under development in order to meet various requirements in the emerging MEMS manufacturing field. 変貌するMEMS市場からの要望に応えるために、 新たにi-line投影レンズOPTIONを開発中 i-line専用光学系の更なる進化! もう一段広いフィールドと高分解能の両立を目指した投影レンズの開発 露光エリア拡大によるスループット向上 安全規格対応 多様で高精度な裏面アライメント 最小レベルのフットプリント High resolution with more bigger field size will be achieved by newly designed projection lens development NES2W-i10 SEM Image 2.5μm L/S 4μm L/S sample 20μm defocus Higher throughput will also be aimed to achieved with differently designed with increasing its field size Compliant with SEMI / CE Various high precision backside alignment is possible to use on these new models Small footprint is well kept for these new models as well. i10: 44mm□ / 2.6μm Best focus NES2W-i10 焦点深度 2 0 50 100 150 3 解像力[μmL&S] 焦点深度(DOF) [μm] 4 5 Resolution 2.6μm NES2W-i10 Reduction Ratio 1/1 Exposure Area 44mmExp light Source 365nm Overlay 0.6μm Backside Alignment Overlay 0.9μm Substrate Size φ150mm / φ200mm Throughput 200mm 90WPH Dimensions (WxDxH)/ Weight 1,440x2,290x2,100mm / 2,150kg ※長方形はオプションです。 i10 : 44mm□ / 2.6μm 〒140-0012 東京都品川区勝島1丁目5番21号(東神ビル) https://www.nikontec.co.jp/contact/index.htm 2.6μm NES1W-i10 1/1 44mm365nm 0.6μm 0.9μm φ50mm φ150mm 150mm 125WPH 1,150x1,940x2,070mm / 1,750kg NES2W-i10 安全に関するご注意   ■ご使用の前に「使用説明書」をよくお読みの上、正しくお使いください。 デビュー! Available ! 本カタログに記載されている会社名および商品名は、各社の商標または登録商標です。 カタログ記載の内容は 2017 年 11 月現在のものです。 製品の価格、仕様、外観は製造者 / 販売者側がなんら債務を負うことなく予告なしに変更されます。 NEW

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Page 1: Mini Step and Repeat System NES1W-i10 NEW NES2W-i102.6˜m NES1W-i10 1/1 44mm ※ 365nm 0.6˜m 0.9˜m φ50mm ~ φ150mm 150mm : 125WPH 1,150x1,940x2,070mm / 1,750kg NES2W-i10 安全に関するご注意

Mini Step and Repeat System

NES1W-i10

Following new optics has been under development in order to meet various requirements in the emerging MEMS manufacturing �eld.

変貌するMEMS市場からの要望に応えるために、

新たにi-line投影レンズOPTIONを開発中

i-line専用光学系の更なる進化! もう一段広いフィールドと高分解能の両立を目指した投影レンズの開発

露光エリア拡大によるスループット向上安全規格対応多様で高精度な裏面アライメント最小レベルのフットプリント

●●●●High resolution with more bigger field size will be achieved by newly designed projection lens development

NES2W-i10 SEM Image

2.5µm L/S

4μm L/S sample

20μm defocus

Higher throughput will also be aimed to achieved with differently designed with increasing its field sizeCompliant with SEMI / CEVarious high precision backside alignment is possible to use on these new modelsSmall footprint is well kept for these new models as well.

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i10 : 44mm□ / 2.6μm

Best focus

NES2W-i10 焦点深度

20

50

100

150

3解像力[μmL&S]

焦点深度(DOF)[μm]

4 5

Resolution 2.6μm

NES2W-i10

Reduction Ratio 1/1

Exposure Area 44mm□※

Exp light Source 365nm

Overlay 0.6μm

Backside Alignment Overlay 0.9μm

Substrate Size φ150mm / φ200mm

Throughput 200mm : 90WPH

Dimensions (WxDxH)/ Weight 1,440x2,290x2,100mm / 2,150kg※長方形はオプションです。

i10 : 44mm□ / 2.6μm

〒140-0012 東京都品川区勝島1丁目5番21号(東神ビル)

https://www.nikontec.co.jp/contact/index.htm

2.6μm

NES1W-i10

1/1

44mm□※

365nm

0.6μm

0.9μm

φ50mm ~ φ150mm

150mm : 125WPH

1,150x1,940x2,070mm / 1,750kg

NES2W-i10

安全に関するご注意   ■ご使用の前に「使用説明書」をよくお読みの上、正しくお使いください。

デビュー!Available !

本カタログに記載されている会社名および商品名は、各社の商標または登録商標です。カタログ記載の内容は 2017 年 11 月現在のものです。製品の価格、仕様、外観は製造者 / 販売者側がなんら債務を負うことなく予告なしに変更されます。

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